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M-MS. 2011年度(H23) >
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http://hdl.handle.net/10119/10383
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| タイトル: | 有機シリコンと窒素を用い安全性を高めたガスバリア膜の作製 |
| 著者: | 渡部, 五常 |
| 著者（別表記）: | わたなべ, ゆきのぶ |
| キーワード: | 触媒化学気相成長法
Cat-CVD
誘導結合プラズマ
ICP
ヘキサメチルジシラザン
HMDS
窒素
N2 |
| 発行日: | Mar-2012 |
| 記述: | Supervisor:松村英樹
マテリアルサイエンス研究科
修士 |
| タイトル（英語）: | Gas Barrier Films Prepared by A Novel Hybrid Method Using Cat-CVD and ICP Plasma |
| 著者（英語）: | Watanabe, Yukinobu |
| 言語: | jpn |
| URI: | http://hdl.handle.net/10119/10383 |
| 出現コレクション: | M-MS. 2011年度(H23) (Jun.2011 - Mar.2012)
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