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H23) (Jun.2011 - Mar.2012 >
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http://hdl.handle.net/10119/10385
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Title: | III-V族化合物半導体デバイスプロセスにおけるAlN絶縁膜の応用に関する研究 |
Authors: | 工藤, 昌宏 |
Authors(alternative): | くどう, まさひろ |
Keywords: | AlN/GaAs(001) AlN/InAs(001) スパッタ堆積 XPS C-V特性 周波数分散 界面準位 Ge界面制御中間層 |
Issue Date: | Mar-2012 |
Description: | Supervisor: 鈴木寿一 マテリアルサイエンス研究科 博士 |
Title(English): | Applications of AlN insulator films in III-V compound semiconductor device processes |
Authors(English): | Kudo, Masahiro |
Language: | jpn |
URI: | http://hdl.handle.net/10119/10385 |
Appears in Collections: | D-MS. 2011年度(H23) (Jun.2011 - Mar.2012)
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