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D-MS. 博士（マテリアルサイエンス）・博士（材料科学） >
D-MS. 2011年度(H23) >
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http://hdl.handle.net/10119/10386
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| タイトル: | 触媒反応により生成されるラジカルを用いたSiへの低温の不純物ドーピング法の研究 |
| 著者: | 早川, 太朗 |
| 著者（別表記）: | はやかわ, たろう |
| キーワード: | silicon
doping
シリコン
ドーピング
phosphorus
リン
boron
ボロン
ラジカル
radical |
| 発行日: | Mar-2012 |
| 記述: | Supervisor:松村 英樹 教授
マテリアルサイエンス研究科
博士 |
| タイトル（英語）: | A Novel Method for Low-Temperature Doping to Silicon by Using Catalytically Generated Radicals |
| 著者（英語）: | Hayakawa, Taro |
| 言語: | jpn |
| URI: | http://hdl.handle.net/10119/10386 |
| 出現コレクション: | D-MS. 2011年度(H23) (Jun.2011 - Mar.2012)
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