|
JAIST Repository >
JAIST >
Theses >
Doctor of Philosophy（Materials Science） >
H27) (Jun.2015 - Mar.2016 >
Please use this identifier to cite or link to this item:
https://hdl.handle.net/10119/12875
|
| Title: | 超高真空処理・ウェット処理したシリコン表面の水および原子状水素との反応性の研究 |
| Authors: | 宮城, 友昭 |
| Authors(alternative): | みやぎ, ともあき |
| Keywords: | silicon surface
nc-AFM
wettability
atomic hydrogen |
| Issue Date: | Jun-2015 |
| Description: | Supervisor:富取 正彦
マテリアルサイエンス研究科
博士 |
| Title(English): | Studies of the reactivity of water and atomic hydrogen on Si surfaces prepared by the UHV and wet process |
| Authors(English): | Miyagi, Tomoaki |
| Language: | jpn |
| URI: | https://hdl.handle.net/10119/12875 |
| Academic Degrees and number: | 甲第879号 |
| Degree-granting date: | 2015-06-24 |
| Degree name: | 博士（マテリアルサイエンス） |
| Degree-granting institutions: | 北陸先端科学技術大学院大学 |
| Appears in Collections: | D-MS. 2015年度(H27) (Jun.2015 - Mar.2016)
|
Files in This Item:
| File |
Description |
Size | Format |
|---|
| abstract.pdf | 英文要旨 | 21Kb | Adobe PDF | View/Open | | paper.pdf | 本文 | 4789Kb | Adobe PDF | View/Open | | summary.pdf | 内容の要旨及び論文審査の結果の要旨 | 239Kb | Adobe PDF | View/Open |
|
All items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved.
|
