JAIST Repository >
i. 北陸先端科学技術大学院大学(JAIST) >
i20. 学位論文 >
D-MS. 博士(マテリアルサイエンス)・博士(材料科学) >
D-MS. 2015年度(H27) >
このアイテムの引用には次の識別子を使用してください:
http://hdl.handle.net/10119/12875
|
タイトル: | 超高真空処理・ウェット処理したシリコン表面の水および原子状水素との反応性の研究 |
著者: | 宮城, 友昭 |
著者(別表記): | みやぎ, ともあき |
キーワード: | silicon surface nc-AFM wettability atomic hydrogen |
発行日: | Jun-2015 |
記述: | Supervisor:富取 正彦 マテリアルサイエンス研究科 博士 |
タイトル(英語): | Studies of the reactivity of water and atomic hydrogen on Si surfaces prepared by the UHV and wet process |
著者(英語): | Miyagi, Tomoaki |
言語: | jpn |
URI: | http://hdl.handle.net/10119/12875 |
学位授与番号: | 甲第879号 |
学位授与年月日: | 2015-06-24 |
学位名: | 博士(マテリアルサイエンス) |
学位授与機関: | 北陸先端科学技術大学院大学 |
出現コレクション: | D-MS. 2015年度(H27) (Jun.2015 - Mar.2016)
|
このアイテムのファイル:
ファイル |
記述 |
サイズ | 形式 |
abstract.pdf | 英文要旨 | 21Kb | Adobe PDF | 見る/開く | paper.pdf | 本文 | 4789Kb | Adobe PDF | 見る/開く | summary.pdf | 内容の要旨及び論文審査の結果の要旨 | 239Kb | Adobe PDF | 見る/開く |
|
当システムに保管されているアイテムはすべて著作権により保護されています。
|