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M-MS. 2015年度(H27) >
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http://hdl.handle.net/10119/13573
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| タイトル: | 溶液プロセスによる高品質LnZrO絶縁膜の開発 |
| 著者: | 下野, 和輝 |
| 著者（別表記）: | しもの, かずき |
| キーワード: | 溶液プロセス
solution process
薄膜トランジスタ
thin film transistor
ゲート絶縁膜
gate insulator
金属酸化物
metal oxide |
| 発行日: | Mar-2016 |
| 記述: | Supervisor:下田 達也
マテリアルサイエンス研究科
修士 |
| タイトル（英語）: | Development of High-Quality LnZrO Insulating Films via a Solution Process |
| 著者（英語）: | Shimono, Kazuki |
| 言語: | jpn |
| URI: | http://hdl.handle.net/10119/13573 |
| 出現コレクション: | M-MS. 2015年度(H27) (Jun.2015 - Mar.2016)
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