JAIST Repository >
i. 北陸先端科学技術大学院大学(JAIST) >
i20. 学位論文 >
M-MS. 修士(マテリアルサイエンス)・修士(材料科学) >
M-MS. 2016年度(H28) >

このアイテムの引用には次の識別子を使用してください: http://hdl.handle.net/10119/13754

タイトル: 溶液プロセスによる非晶質SiC半導体膜の作製に関する研究
著者: 岩坂, 明
著者(別表記): いわさか, あきら
キーワード: 液体シリコン
liquid silicon
発行日: Sep-2016
記述: Supervisor: 下田 達也
マテリアルサイエンス研究科
修士
タイトル(英語): Solution-processed amorphous silicon carbide films for semiconductor
著者(英語): Iwasaka, Akira
言語: jpn
URI: http://hdl.handle.net/10119/13754
出現コレクション:M-MS. 2016年度(H28) (Jun.2016 - Mar.2017)

このアイテムのファイル:

このアイテムに関連するファイルはありません。

当システムに保管されているアイテムはすべて著作権により保護されています。

 


お問い合わせ先 : 北陸先端科学技術大学院大学 研究推進課図書館情報係