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http://hdl.handle.net/10119/15349
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| タイトル: | Investigation of Ferroelectricity in Sputtered Y-doped HfO2 Thin Films |
| 著者: | Karim, Mohammad Mesbahul |
| 著者（別表記）: | かりむ, もはまど めすばうる |
| キーワード: | Thin films
ferroelectrics
HfO2
ferroelectric thin film transistor |
| 発行日: | Jun-2018 |
| 記述: | Supervisor: 徳光 永輔
先端科学技術研究科
修士(マテリアルサイエンス) |
| タイトル（英語）: | Investigation of Ferroelectricity in Sputtered Y-doped HfO2 Thin Films |
| 著者（英語）: | Karim, Mohammad Mesbahul |
| 言語: | eng |
| URI: | http://hdl.handle.net/10119/15349 |
| 出現コレクション: | M-MS. 2018年度(H30) (Jun.2018 - Mar.2019)
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