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http://hdl.handle.net/10119/15407
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| タイトル: | 先端グラフェンNEMS技術を基盤とする革新的熱フォノンエンジニアリング素子の創製 |
| その他のタイトル: | Revolutionary heat phonon engineering based on advanced graphene NEMS technology |
| 著者: | 水田, 博 |
| 著者（別表記）: | Mizuta, Hiroshi |
| キーワード: | グラフェン
NEMS
フォノン
フォノニック結晶
超微細加工
ヘリウムイオンビーム |
| 発行日: | 5-Jun-2018 |
| 抄録: | 原子層材料グラフェンNEMS（ナノ電子機械システム）技術と、ビーム径～0.3 nmの収束He+ビームによってグラフェンを直接ミリング加工するシングルナノメータ加工技術を融合させ、宙吊りにした両持ちグラフェン梁（長さ・幅100 nm～1 ミクロンスケール）上に直径3 ～4 nmのナノ孔の２次元アレイ（グラフェンフォノニック結晶：GPｎC）素子を高速で作製することに成功した。また、GPnC構造におけるフォノニックバンドギャップ形成の様子を大規模有限要素解析と原子スケールフォノン計算によって明らかにした。：By combining graphene-based NEMS (Nano-Electro-Mechanical-System) technology and single-nanometer patterning technology using focused He+ ion beam of ～0.3 nm in diameter, we succeeded to fabricatie two-dimensional array of nanopores of 3 - 4 nm in diameter (graphene phononic crystal: GPnC) devices on doubly-clamped graphene beams of length and width ranging from 100 nm up to 1 micron. We also studied phonic bandgap formation by using large-scale finite element simulation and atom-scale phonon calculations. |
| 記述: | 挑戦的萌芽研究
研究期間：2016～2017
課題番号：16K13650
研究者番号：90372458
研究分野：ナノエレクトロニクス、NEMS |
| 言語: | jpn |
| URI: | http://hdl.handle.net/10119/15407 |
| 出現コレクション: | 2017年度 (FY 2017)
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このアイテムのファイル:
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記述 |
サイズ | 形式 |
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| 16K13650seika.pdf | | 1166Kb | Adobe PDF | 見る/開く |
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