JAIST Repository >
JAIST >
Theses >
Doctor of Philosophy(Materials Science) >
R01) (Jun.2019 - Mar.2020 >

Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/10119/16192

Title: 直接インプリント法によるIn2O3系酸化物薄膜の形成と薄膜トランジスタへの応用に関する研究
Authors: Jain, Puneet
Authors(alternative): じぇいん, ぷにーと
Keywords: solution process
imprinting
oxide-semiconductors
high-k dielectric
thin film transistors
Issue Date: Sep-2019
Description: Supervisor:徳光 永輔
先端科学技術研究科
博士
Title(English): Investigation of In2O3-based Oxide Films by Direct Imprinting for TFT Application
Authors(English): Jain, Puneet
Language: eng
URI: http://hdl.handle.net/10119/16192
Academic Degrees and number: 甲第1169号
Degree-granting date: 2019-09-24
Degree name: 博士(マテリアルサイエンス)
Degree-granting institutions: 北陸先端科学技術大学院大学
Appears in Collections:D-MS. 2019年度(R01) (Jun.2019 - Mar.2020)

Files in This Item:

File Description SizeFormat
abstract.pdf要旨383KbAdobe PDFView/Open
paper.pdf本文4531KbAdobe PDFView/Open
summary.pdf内容の要旨及び論文審査の結果の要旨749KbAdobe PDFView/Open

All items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved.

 


Contact : Library Information Section, Japan Advanced Institute of Science and Technology