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D-MS. 博士（マテリアルサイエンス）・博士（材料科学） >
D-MS. 2019年度(R01) >
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http://hdl.handle.net/10119/16668
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| タイトル: | 層状Ⅲ族モノカルコゲナイド薄膜のファンデルワールスヘテロ界面微細構造に関する研究 |
| 著者: | 米澤, 隆宏 |
| 著者（別表記）: | よねざわ, たかひろ |
| キーワード: | GaSe
InSe
VDW epitaxy
STEM
Moire pattern
Layered materials
MBE
SPM |
| 発行日: | Mar-2020 |
| 記述: | Supervisor: 高村 由起子
先端科学技術研究科
博士 |
| タイトル（英語）: | Atomistic Study on van der Waals Heterointerface Structures of Layered Group--Ⅲ Monochalcogenide Thin Films |
| 著者（英語）: | Yonezawa, Takahiro |
| 言語: | jpn |
| URI: | http://hdl.handle.net/10119/16668 |
| 学位授与番号: | 甲第1192号 |
| 学位授与年月日: | 2020-03-25 |
| 学位名: | 博士(マテリアルサイエンス) |
| 学位授与機関: | 北陸先端科学技術大学院大学 |
| 出現コレクション: | D-MS. 2019年度(R01) (Jun.2019 - Mar.2020)
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このアイテムのファイル:
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記述 |
サイズ | 形式 |
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| abstract.pdf | 要旨 | 155Kb | Adobe PDF | 見る/開く | | paper.pdf | 本文 | 11694Kb | Adobe PDF | 見る/開く | | summary.pdf | 内容の要旨及び論文審査の結果の要旨 | 381Kb | Adobe PDF | 見る/開く |
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