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M-MS. 2021年度(R03) >
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http://hdl.handle.net/10119/17671
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| タイトル: | 化学溶液堆積法によるYドープHf-Zr-O薄膜の作製と評価 |
| 著者: | 佐々木, 啓介 |
| 著者（別表記）: | ささき, けいすけ |
| キーワード: | 強誘電体
化学溶液堆積法
Ferroelectric
CSD
Y-HZO |
| 発行日: | Mar-2022 |
| 記述: | Supervisor: 徳光 永輔
先端科学技術研究科
修士(マテリアルサイエンス) |
| タイトル（英語）: | Preparation and Characterization of Y-doped Hf-Zr-O Thin Films by Chemical Solution Deposition |
| 著者（英語）: | Sasaki, Keisuke |
| 言語: | jpn |
| URI: | http://hdl.handle.net/10119/17671 |
| 出現コレクション: | M-MS. 2021年度(R03) (Jun.2021 - Mar.2022)
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