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M-MS. 2021年度(R03) >
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http://hdl.handle.net/10119/17686
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| タイトル: | スパッタ法により形成したHf-Zr-O薄膜の強誘電性の安定性とデバイス応用に関する研究 |
| 著者: | 原, 佑樹 |
| 著者（別表記）: | はら, ゆうき |
| キーワード: | 強誘電体
ferroelectric
スパッタ法
sputtering |
| 発行日: | Mar-2022 |
| 記述: | Supervisor: 徳光 永輔
先端科学技術研究科
修士(マテリアルサイエンス) |
| タイトル（英語）: | Investigation of ferroelectric stability and device application of Hf-Zr-O thin film formed by sputtering |
| 著者（英語）: | Hara, Yuki |
| 言語: | jpn |
| URI: | http://hdl.handle.net/10119/17686 |
| 出現コレクション: | M-MS. 2021年度(R03) (Jun.2021 - Mar.2022)
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