JAIST Repository >
i. 北陸先端科学技術大学院大学(JAIST) >
i20. 学位論文 >
D-MS. 博士(マテリアルサイエンス)・博士(材料科学) >
D-MS. 2004年度(H16) >

このアイテムの引用には次の識別子を使用してください: http://hdl.handle.net/10119/2172

タイトル: レーザー照射自己誘導エネルギー強度分布によるシリコン薄膜の周期的構造形成およびその結晶性に関する研究
著者: 可貴, 裕和
著者(別表記): かき, ひろかず
キーワード: レーザーアニール,シリコン,多結晶,薄膜,TFT
laser-anneal, silicon, polycrystalline, thin-film,
発行日: Mar-2005
記述: 
Supervisor:堀田 將
材料科学研究科
博士
タイトル(英語): レーザー照射自己誘導エネルギー強度分布によるシリコン薄膜の周期的構造形成およびその結晶性に関する研究
著者(英語): Kaki, Hirokazu
言語: jpn
URI: http://hdl.handle.net/10119/2172
出現コレクション:D-MS. 2004年度(H16) (Jun.2004 - Mar.2005)

このアイテムのファイル:

ファイル 記述 サイズ形式
2476abstract.pdf656KbAdobe PDF見る/開く

当システムに保管されているアイテムはすべて著作権により保護されています。

 


お問い合わせ先 : 北陸先端科学技術大学院大学 研究推進課図書館情報係