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M-MS. 1996年度(H08) >

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タイトル: レジストプロセスによるSTMリソグラフィーを用いたGaAs上の微細加工
著者: 弘中, 勝也
著者(別表記): ヒロナカ, カツヤ
キーワード: リソグラフィー, STM, AFM, PMMA, GaAs
発行日: Mar-1997
記述: Supervisor:山田 省二
材料科学研究科
修士
タイトル(英語): レジストプロセスによるSTMリソグラフィーを用いたGaAs上の微細加工
著者(英語): Hironaka, Katsuya
言語: jpn
URI: http://hdl.handle.net/10119/2388
出現コレクション:M-MS. 1996年度(H08) (Jun.1996 - Mar.1997)

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