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M-MS. 修士（マテリアルサイエンス）・修士（材料科学） >
M-MS. 1997年度(H09) >
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http://hdl.handle.net/10119/2456
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| タイトル: | Si基板上にヘテロエピタキシャル成長したY組成制御YSZ薄膜の膜質改善 |
| 著者: | 梅本, 真哉 |
| 著者（別表記）: | うめもと, しんや |
| キーワード: | Si, YSZ, ヘテロエピタキシャル成長, 反応性スパッタ法, XRD, I-V, C-V
Si, YSZ, heteroepitaxial growth, reactive sputteri |
| 発行日: | Mar-1998 |
| 記述: |
Supervisor:堀田 將
材料科学研究科
修士 |
| タイトル（英語）: | Improvement of Material Properties of Heteroepitaxial YSZ Films with Controlled Y Content on Si |
| 著者（英語）: | Umemoto, Shinya |
| 言語: | jpn |
| URI: | http://hdl.handle.net/10119/2456 |
| 出現コレクション: | M-MS. 1997年度(H09) (Jun.1997 - Mar.1998)
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記述 |
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