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M-MS. 1997年度(H09) >
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http://hdl.handle.net/10119/2520
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タイトル: | フォトリソグラフィーを用いたナノメータ微細加工法に関する研究 |
著者: | 永井, 竜太 |
著者(別表記): | ながい, りゅうた |
キーワード: | ナノ・テクノロジー,チタン,フォトリソグラフィー,陽極酸化法,硫酸/過酸化水素溶液 nano-technology,Ti,photo-litography,anodic oxidati |
発行日: | Mar-1998 |
記述: | Supervisor:松村 英樹 材料科学研究科 修士 |
タイトル(英語): | Study of nano-technology utilizing conventional photo-lithography |
著者(英語): | Nagai, Ryuta |
URI: | http://hdl.handle.net/10119/2520 |
出現コレクション: | M-MS. 1997年度(H09) (Jun.1997 - Mar.1998)
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