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M-MS. 修士（マテリアルサイエンス）・修士（材料科学） >
M-MS. 1998年度(H10) >
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http://hdl.handle.net/10119/2601
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| タイトル: | フォトリソグラフィを用いたナノメータ微細加工技術の研究 |
| 著者: | 橋岡, 真義 |
| 著者（別表記）: | はしおか, しんぎ |
| キーワード: | ナノ・テクノロジー,フォトリソグラフィ, 陽極酸化法, 層間絶縁膜
Nano-technology,Photolithography,Anodic oxidation, |
| 発行日: | Mar-1999 |
| 記述: |
Supervisor:松村 英樹 教授
材料科学研究科
修士 |
| タイトル（英語）: | Fabrication of nanometer-size slit mask using photolithography |
| 著者（英語）: | Hashioka, Shingi |
| 言語: | jpn |
| URI: | http://hdl.handle.net/10119/2601 |
| 出現コレクション: | M-MS. 1998年度(H10) (Jun.1998 - Mar.1999)
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記述 |
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