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M-MS. 1998年度(H10) >
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http://hdl.handle.net/10119/2601
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タイトル: | フォトリソグラフィを用いたナノメータ微細加工技術の研究 |
著者: | 橋岡, 真義 |
著者(別表記): | はしおか, しんぎ |
キーワード: | ナノ・テクノロジー,フォトリソグラフィ, 陽極酸化法, 層間絶縁膜 Nano-technology,Photolithography,Anodic oxidation, |
発行日: | Mar-1999 |
記述: | Supervisor:松村 英樹 教授 材料科学研究科 修士 |
タイトル(英語): | Fabrication of nanometer-size slit mask using photolithography |
著者(英語): | Hashioka, Shingi |
言語: | jpn |
URI: | http://hdl.handle.net/10119/2601 |
出現コレクション: | M-MS. 1998年度(H10) (Jun.1998 - Mar.1999)
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