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M-MS. 修士（マテリアルサイエンス）・修士（材料科学） >
M-MS. 1998年度(H10) >
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http://hdl.handle.net/10119/2604
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| タイトル: | Cat-CVDにおけるガス分解反応を利用したシリコン酸化膜低温形成 |
| 著者: | 曽原, 聰 |
| 著者（別表記）: | そはら, さとし |
| キーワード: | Cat-CVD, 直接酸化, SiO_2, 熱酸化膜, 低温形成
Cat-CVD, direct oxidation, SiO_2, thermal SiO_2, f |
| 発行日: | Mar-1999 |
| 記述: |
Supervisor:松村 英樹
材料科学研究科
修士 |
| タイトル（英語）: | Formation of SiO_2 films prepared at low-temperatures bydirect oxidation of Si in Cat-CVD system |
| 著者（英語）: | Sohara, Satoshi |
| 言語: | jpn |
| URI: | http://hdl.handle.net/10119/2604 |
| 出現コレクション: | M-MS. 1998年度(H10) (Jun.1998 - Mar.1999)
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記述 |
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