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タイトル: 分子線エピタキシーによるGaAs低温成長過程のモンテカルロ・シミュレーション
著者: 小野田, 敦
著者(別表記): おのだ, あつし
キーワード: 低温成長、RHEED強度振動、過剰As、モンテカルロ・シミュレーション
low tempurature growth,RHEED intensity oscillation
発行日: Sep-1999
記述: 
Supervisor:大塚 信雄
材料科学研究科
修士
タイトル(英語): Monte Carlo simulation of molecular beam epitaxy duringlow temperature GaAs growth process
著者(英語): Onoda, Atsushi
言語: eng
URI: http://hdl.handle.net/10119/2654
出現コレクション:M-MS. 1999年度(H11) (Jun.1999 - Mar.2000)

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