JAIST Repository >
i. 北陸先端科学技術大学院大学(JAIST) >
i20. 学位論文 >
M-MS. 修士(マテリアルサイエンス)・修士(材料科学) >
M-MS. 1999年度(H11) >
このアイテムの引用には次の識別子を使用してください:
http://hdl.handle.net/10119/2654
|
タイトル: | 分子線エピタキシーによるGaAs低温成長過程のモンテカルロ・シミュレーション |
著者: | 小野田, 敦 |
著者(別表記): | おのだ, あつし |
キーワード: | 低温成長、RHEED強度振動、過剰As、モンテカルロ・シミュレーション low tempurature growth,RHEED intensity oscillation |
発行日: | Sep-1999 |
記述: | Supervisor:大塚 信雄 材料科学研究科 修士 |
タイトル(英語): | Monte Carlo simulation of molecular beam epitaxy duringlow temperature GaAs growth process |
著者(英語): | Onoda, Atsushi |
言語: | eng |
URI: | http://hdl.handle.net/10119/2654 |
出現コレクション: | M-MS. 1999年度(H11) (Jun.1999 - Mar.2000)
|
このアイテムのファイル:
ファイル |
記述 |
サイズ | 形式 |
862abstract.pdf | | 5Kb | Adobe PDF | 見る/開く |
|
当システムに保管されているアイテムはすべて著作権により保護されています。
|