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M-MS. 修士（マテリアルサイエンス）・修士（材料科学） >
M-MS. 1999年度(H11) >
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http://hdl.handle.net/10119/2680
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| タイトル: | Cat-CVD法による光安定化アモルファスシリコン膜の高速堆積 |
| 著者: | 石橋, 頼子 |
| 著者（別表記）: | いしばし, よりこ |
| キーワード: | Cat-CVD法、a-Si:H膜、光安定性、高速堆積、ダングリングボンド、水素 |
| 発行日: | Mar-2000 |
| 記述: |
Supervisor:松村 英樹
材料科学研究科
修士 |
| タイトル（英語）: | High-rate deposition of hydrogenated amorphous silicon films by Cat-CVD with high stability for light soaking |
| 著者（英語）: | Ishibasi, Yoriko |
| 言語: | eng |
| URI: | http://hdl.handle.net/10119/2680 |
| 出現コレクション: | M-MS. 1999年度(H11) (Jun.1999 - Mar.2000)
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記述 |
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