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M-MS. 1999年度(H11) >
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http://hdl.handle.net/10119/2717
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| タイトル: | 金属 / 絶縁体トンネル接合トランジスタの室温動作 |
| 著者: | 福島, 潔 |
| 著者（別表記）: | ふくしま, きよし |
| キーワード: | シリコン酸化膜, 直接酸化, 低温形成, ゲート絶縁膜, 触媒CVD
SiO2, direct oxide, Low temperature, gate oxide, C |
| 発行日: | Mar-2000 |
| 記述: |
Supervisor:松村 英樹
材料科学研究科
修士 |
| タイトル（英語）: | 金属 / 絶縁体トンネル接合トランジスタの室温動作 |
| 著者（英語）: | Fukushima, Kiyoshi |
| URI: | http://hdl.handle.net/10119/2717 |
| 出現コレクション: | M-MS. 1999年度(H11) (Jun.1999 - Mar.2000)
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