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M-MS. 修士（マテリアルサイエンス）・修士（材料科学） >
M-MS. 1999年度(H11) >
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http://hdl.handle.net/10119/2721
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| タイトル: | 好塩性古細菌 Natronobacterium pharaonis フォボロドプシン（ppR）の K205A 変異体とアナログを用いた ppR レチナール結合部位の研究 |
| 著者: | 松下, 真一 |
| 著者（別表記）: | まつした, しんいち |
| キーワード: | シリコン酸化膜, 直接酸化, 低温形成, ゲート絶縁膜, 触媒CVD
SiO2, direct oxide, Low temperature, gate oxide, C |
| 発行日: | Mar-2000 |
| 記述: |
Supervisor:高橋 哲郎
材料科学研究科
修士 |
| タイトル（英語）: | 好塩性古細菌 Natronobacterium pharaonis フォボロドプシン（ppR）の K205A 変異体とアナログを用いた ppR レチナール結合部位の研究 |
| 著者（英語）: | Matsushita, Shinichi |
| URI: | http://hdl.handle.net/10119/2721 |
| 出現コレクション: | M-MS. 1999年度(H11) (Jun.1999 - Mar.2000)
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