|
JAIST Repository >
i. 北陸先端科学技術大学院大学(JAIST) >
i20. 学位論文 >
M-MS. 修士（マテリアルサイエンス）・修士（材料科学） >
M-MS. 1999年度(H11) >
このアイテムの引用には次の識別子を使用してください:
http://hdl.handle.net/10119/2724
|
| タイトル: | 酸化ガスの接触分解反応を利用したシリコンの低温直接酸化 |
| 著者: | 工藤, 学 |
| 著者（別表記）: | くどう, まなぶ |
| キーワード: | シリコン酸化膜, 直接酸化, 低温形成, ゲート絶縁膜, 触媒CVD
SiO2, direct oxide, Low temperature, gate oxide, C |
| 発行日: | Mar-2000 |
| 記述: |
Supervisor:松村 英樹
材料科学研究科
修士 |
| タイトル（英語）: | Low temperature direct-oxidation of Si using oxygen activated by catalytic cracking reaction of oxide gas |
| 著者（英語）: | Kudo, Manabu |
| URI: | http://hdl.handle.net/10119/2724 |
| 出現コレクション: | M-MS. 1999年度(H11) (Jun.1999 - Mar.2000)
|
このアイテムのファイル:
このアイテムに関連するファイルはありません。
|
当システムに保管されているアイテムはすべて著作権により保護されています。
|
