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M-MS. 2000年度(H12) >
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http://hdl.handle.net/10119/2769
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| タイトル: | 原子状水素処理によるCu2Oの導電率制御 |
| 著者: | 田淵, 慎一 |
| 著者（別表記）: | たぶち, のりかず |
| キーワード: | Cu2O,原子状水素処理,Cat-CVD,キャリア密度
Cu2O,Atomic Hydrogen Exposure,Cat-CVD,Carrier Conc |
| 発行日: | Mar-2001 |
| 記述: |
Supervisor:松村 英樹
材料科学研究科
修士 |
| タイトル（英語）: | Control of Carrier Concentration in Cuprous Oxide Thin Film by Atomic Hydrogen Exposure |
| 著者（英語）: | Tabuchi, Norikazu |
| 言語: | jpn |
| URI: | http://hdl.handle.net/10119/2769 |
| 出現コレクション: | M-MS. 2000年度(H12) (Jun.2000 - Mar.2001)
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記述 |
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