|
JAIST Repository >
i. 北陸先端科学技術大学院大学(JAIST) >
i20. 学位論文 >
M-MS. 修士（マテリアルサイエンス）・修士（材料科学） >
M-MS. 2000年度(H12) >
このアイテムの引用には次の識別子を使用してください:
http://hdl.handle.net/10119/2863
|
| タイトル: | 光学活性ジシランの合成とハロゲンによる選択的置換基切断反応 |
| 著者: | 鈴木, 圭吾 |
| 著者（別表記）: | すずき, けいご |
| キーワード: | シリルリチウム, 光学活性ジシラン, 立体化学, 切断反応
Silyllitihium, Optically Active Disilane, Stereoch |
| 発行日: | Mar-2001 |
| 記述: |
Supervisor:川上 雄資
材料科学研究科
修士 |
| タイトル（英語）: | Synthesis of Optically Active Disilane and Selective Cleavage of the Substituent by Halogen |
| 著者（英語）: | Suzuki, Keigo |
| URI: | http://hdl.handle.net/10119/2863 |
| 出現コレクション: | M-MS. 2000年度(H12) (Jun.2000 - Mar.2001)
|
このアイテムのファイル:
このアイテムに関連するファイルはありません。
|
当システムに保管されているアイテムはすべて著作権により保護されています。
|
