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 M-MS. 修士(マテリアルサイエンス)・修士(材料科学) >
 M-MS. 2002年度(H14) >
 
        
        
        
            | このアイテムの引用には次の識別子を使用してください: http://hdl.handle.net/10119/3084 |  
 
| タイトル: | 加湿オゾン酸化膜を用いた溶融結晶化多結晶シリコン薄膜トランジスタの作製 |  | 著者: | 関, 雅夫 |  | 著者(別表記): | せき, まさお |  | キーワード: | 酸化膜, 薄膜トランジスタ oxide film, poly-Si TFT
 |  | 発行日: | Mar-2003 |  | 記述: | Supervisor:堀田 將
 材料科学研究科
 修士
 |  | タイトル(英語): | Fabrication of melt-crystallized polycrystalline silicon thin film transistror with gate oxide film formed by humidified ozone |  | 著者(英語): | Seki, Masao |  | URI: | http://hdl.handle.net/10119/3084 |  | 出現コレクション: | M-MS. 2002年度(H14) (Jun.2002 - Mar.2003) 
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