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M-MS. 2004年度(H16) >

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タイトル: CVD法による共役系高分子膜の作成と分子鎖の配向制御
著者: 板橋, 敦
著者(別表記): いたばし, あつし
キーワード: アミノ基終端シリコン, XPS, FT-IR, AFM
NH2-terminated Si(111), XPS, FT-IR, AFM
発行日: Mar-2005
記述: 
Supervisor:村田 英幸
材料科学研究科
修士
タイトル(英語): Fabrication of NH2-terminated Si(111) Substrate for Attaching Functional Organic Molecules to Semiconductor Surface
著者(英語): Itabashi, Atsushi 
URI: http://hdl.handle.net/10119/3197
出現コレクション:M-MS. 2004年度(H16) (Jun.2004 - Mar.2005)

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