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M-MS. 2004年度(H16) >
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http://hdl.handle.net/10119/3197
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タイトル: | CVD法による共役系高分子膜の作成と分子鎖の配向制御 |
著者: | 板橋, 敦 |
著者(別表記): | いたばし, あつし |
キーワード: | アミノ基終端シリコン, XPS, FT-IR, AFM NH2-terminated Si(111), XPS, FT-IR, AFM |
発行日: | Mar-2005 |
記述: | Supervisor:村田 英幸 材料科学研究科 修士 |
タイトル(英語): | Fabrication of NH2-terminated Si(111) Substrate for Attaching Functional Organic Molecules to Semiconductor Surface |
著者(英語): | Itabashi, Atsushi |
URI: | http://hdl.handle.net/10119/3197 |
出現コレクション: | M-MS. 2004年度(H16) (Jun.2004 - Mar.2005)
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