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M-MS. 2004年度(H16) >
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http://hdl.handle.net/10119/3215
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| タイトル: | シリコーン系材料とオゾンガスを用いたSi酸化膜の低温形成 |
| 著者: | 関口, 忠義 |
| 著者（別表記）: | せきぐち, ただよし |
| キーワード: | シリコーン系材料、オゾンガス、Si酸化膜
silicone material, ozone gas, Si oxide |
| 発行日: | Mar-2005 |
| 記述: |
Supervisor:堀田 將
材料科学研究科
修士 |
| タイトル（英語）: | Low temperature fabrication of Si oxide filmby using silicone materials and ozone gas |
| 著者（英語）: | Sekiguchi, Tadayoshi |
| URI: | http://hdl.handle.net/10119/3215 |
| 出現コレクション: | M-MS. 2004年度(H16) (Jun.2004 - Mar.2005)
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