|
JAIST Repository >
c. マテリアルサイエンス研究科・マテリアルサイエンス系 >
c10. 学術雑誌論文等 >
c10-1. 雑誌掲載論文 >
このアイテムの引用には次の識別子を使用してください:
http://hdl.handle.net/10119/4004
|
| タイトル: | Laser ablated Ni-doped HfO_2 thin films: Room temperature ferromagnets |
| 著者: | Nguyen, Hoa Hong
Sakai, Joe
Poirot, Nathalie
Ruyter, Antoine |
| 発行日: | 2005-06 |
| 出版者: | AMERICAN INSTITUTE OF PHYSICS |
| 誌名: | Applied Physics Letters |
| 巻: | 86 |
| 号: | 24 |
| 開始ページ: | 242505-1 |
| 終了ページ: | 242505-3 |
| DOI: | 10.1063/1.1949723 |
| 抄録: | Laser ablated Ni-doped HfO_2 thin films fabricated under a wide range of growth conditions all showed ferromagnetism above room temperature. However, the films deposited at 800 °C under an oxygen partial pressure of 10^<-6> Torr have the largest magnetic moment of 2.7μB/ Ni. Ni-doped HfO_2 films also well demonstrate a large anisotropy. Magnetic force microscopy measurements confirmed that Ni-doped HfO2 films are real room temperature ferromagnets with a domain structure, and that the size of magnetic domains is larger than 10 μm. |
| Rights: | Copyright 2005 American Institute of Physics. This article may be downloaded for personal use only. Any other use requires prior permission of the author and the American Institute of Physics. The following article appeared in Nguyen Hoa Hong, Joe Sakai, Nathalie Poirot, Antoine Ruyter, Applied Physics Letters 86(24), 242505 (2005) and may be found at http://link.aip.org/link/?apl/86/242505. |
| 資料タイプ: | Article |
| URI: | http://hdl.handle.net/10119/4004 |
| 資料タイプ: | publisher |
| 出現コレクション: | c10-1. 雑誌掲載論文 (Journal Articles)
|
このアイテムのファイル:
| ファイル |
記述 |
サイズ | 形式 |
|---|
| S-299.pdf | | 215Kb | Adobe PDF | 見る/開く |
|
当システムに保管されているアイテムはすべて著作権により保護されています。
|
