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            | このアイテムの引用には次の識別子を使用してください: http://hdl.handle.net/10119/4607 |  
 
| タイトル: | Electric conductance through chemical bonding states being formed between a Si tip and a Si(111)-(7x7) surface by bias-voltage noncontact atomic force spectroscopy |  | 著者: | Arai, T. Tomitori, M.
 |  | 発行日: | 2006-02-13 |  | 出版者: | American Physical Society |  | 誌名: | Physical Review B |  | 巻: | 73 |  | 号: | 7 |  | 開始ページ: | 073307-1 |  | 終了ページ: | 073307-4 |  | DOI: | 10.1103/PhysRevB.73.073307 |  | 抄録: | The change in electric conductance through bonding states being formed between a Si tip and a Si surface is examined by bias-voltage noncontact atomic force spectroscopy: current I and force interaction Δf (AFM cantilever resonance frequency shift) are simultaneously measured versus bias voltage V. A peak in I-V curves appears at close tip-sample separation over adatoms at the same V as a sharp peak in the Δf-V does. The peak possibly corresponds to channel formation through bonding states induced by changing V, leading to current saturation on tunnel barrier collapse with decreasing separation. |  | Rights: | T. Arai and M. Tomitori, Physical Review B, 73(7), 2006, 073307-1-073307-4. Copyright 2006 by the American Physical Society. http://link.aps.org/abstract/PRB/v73/e073307 |  | URI: | http://hdl.handle.net/10119/4607 |  | 資料タイプ: | publisher |  | 出現コレクション: | c10-1. 雑誌掲載論文 (Journal Articles) 
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