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M-MS. 2009年度(H21) >
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http://hdl.handle.net/10119/8990
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| タイトル: | 微量ドーピング不純物と水素原子によるシリコン表面の高性能クリーニング |
| 著者: | 宮本, 素明 |
| 著者（別表記）: | みやもと, もとはる |
| キーワード: | Hクリーニング, 結晶シリコン
H cleaning, c-Si |
| 発行日: | Mar-2010 |
| 記述: | Supervisor:松村英樹
マテリアルサイエンス研究科
修士 |
| タイトル（英語）: | Efficient cleaning of the surface of silicon wafers with radicals formed by the catalytic cracking of H2 and simultaneously added PH3 gas molecules |
| 著者（英語）: | Miyamoto, Motoharu |
| 言語: | jpn |
| URI: | http://hdl.handle.net/10119/8990 |
| 出現コレクション: | M-MS. 2009年度(H21) (Jun.2009 - Mar.2010)
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