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            | このアイテムの引用には次の識別子を使用してください: http://hdl.handle.net/10119/9201 |  
 
| タイトル: | Fabrication of a submicron patterned electrode using an electrospun single fiber as a shadow-mask |  | 著者: | Ishii, Yuya Sakai, Heisuke
 Murata, Hideyuki
 |  | キーワード: | Electrospinning Submicron-gap patterned electrode
 Single fiber
 Shadow-mask
 |  | 発行日: | 2009-07-11 |  | 出版者: | Elsevier |  | 誌名: | Thin Solid Films |  | 巻: | 518 |  | 号: | 2 |  | 開始ページ: | 647 |  | 終了ページ: | 650 |  | DOI: | 10.1016/j.tsf.2009.07.061 |  | 抄録: | We realize a uniform submicron-gap electrode by using an electrospun single fiber as a shadow-mask. By stretching an electrospun fiber, we can decrease the diameter of the fiber from 2 μm to 564 nm with its standard deviation of 57.7 nm. We place the fiber on the center of a Si/SiO_2 substrate followed by the deposition of a molybdenum trioxide adhesion layer and Au electrode. After removing the fiber from the Si/SiO_2 substrate, the submicron-gap gold electrode is formed. Characterization of the gap with scanning electron microscope revealed that the gap has a good uniformity; the average gap length is 865 nm throughout 2 mm gap width. |  | Rights: | NOTICE: This is the author's version of a work accepted for publication by Elsevier. Yuya Ishii, Heisuke Sakai, and Hideyuki Murata, Thin Solid Films, 518(2), 2009, 647-650, http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2009.07.061 |  | URI: | http://hdl.handle.net/10119/9201 |  | 資料タイプ: | author |  | 出現コレクション: | c10-1. 雑誌掲載論文 (Journal Articles) 
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