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D-MS. 2002年度(H14) >

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タイトル: Cat-CVD法のシリコン集積回路製作への応用に関する基礎研究
著者: 森本, 類
著者(別表記): もりもと, るい
キーワード: ULSI, CVD, 熱履歴, Cat-CVD, RTA, プリカーサ膜, poly-Si, SiNx, CMOS
ULSI, CVD, thermal budget, Cat-CVD, RTA, precusor
発行日: Mar-2003
記述: 
Supervisor:松村 英樹
材料科学研究科
博士
タイトル(英語): Fundamental Study of Cat-CVD method for the Application of Ultralarge Integrated Circuits Fabrication
著者(英語): Morimoto, Rui
言語: jpn
URI: http://hdl.handle.net/10119/2135
出現コレクション:D-MS. 2002年度(H14) (Jun.2002 - Mar.2003)

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