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タイトル: エピタキシャルBi4Ti3O12(BIT)薄膜を用いた強誘電体メモリデバイスの研究
著者: 佐々木, 伸悟
著者(別表記): ささき, しんご
キーワード: 強誘電体メモリ, スパッタリング法, エピタキシャル成長, Bi4Ti3O12, Ir, Pt, YSZ
Ferroelectric memory, sputtering, epitaxial, Bi4Ti
発行日: Mar-2001
記述: 
Supervisor:堀田 將
材料科学研究科
修士
タイトル(英語): Study on ferroelectric memory device using an Epitaxial Bi4Ti3O12(BIT) thin film
著者(英語): Sasaki, Shingo
言語: jpn
URI: http://hdl.handle.net/10119/2777
出現コレクション:M-MS. 2000年度(H12) (Jun.2000 - Mar.2001)

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