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M-MS. 2006年度(H18) >
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http://hdl.handle.net/10119/3671
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タイトル: | Cat-CVD法による有機シリコン化合物を用いた大面積ガスバリア膜の作製 |
著者: | 小栁津, 拓哉 |
著者(別表記): | おやいづ, たくや |
キーワード: | Cat-CVD, 窒化シリコン,酸窒化シリコン,ガスバリア膜,有機シリコン化合物 Cat-CVD,SiN,SiON,Gas barrier film,Organic silicon compound |
発行日: | Mar-2007 |
記述: | Supervisor:松村 英樹 材料科学研究科 修士 |
タイトル(英語): | Formation of Large-Area Gas Barrier Films by Cat-CVD Method Using Organic Silicon Compounds |
著者(英語): | Oyaidu, Takuya |
言語: | eng |
URI: | http://hdl.handle.net/10119/3671 |
出現コレクション: | M-MS. 2006年度(H18) (Jun.2006 - Mar.2007)
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