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著者:  "Hayakawa, Taro"

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発行日タイトル 著者
2011 Extremely Low Recombination Velocity on Crystalline Silicon Surfaces Realized by Low-Temperature Impurity Doping in Cat-CVD TechnologyHayakawa, Taro; Miyamoto, Motoharu; Koyama, Koichi; Ohdaira, Keisuke; Matsumura, Hideki
16-Sep-2014 Cat-doping: Novel method for phosphorus and boron shallow doping in crystalline silicon at 80 °CMatsumura, Hideki; Hayakawa, Taro; Ohta, Tatsunori; Nakashima, Yuki; Miyamoto, Motoharu; Trinh, Cham Thi; Koyama, Koichi; Ohdaira, Keisuke

 


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