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一覧: タイトル
検索結果: 14342-14362 / 18593.
発行日 | タイトル |
著者 |
Mar-1997 | 準安定窒素原子 N(^2D) とアルカンの反応で生ずる NH ラジカルの初期状態分布 | 木村, 友紀; キムラ, ユキ |
Mar-1999 | 準安定窒素原子とメタン及び重水素化メタンの反応 | 中永, 隆庸; なかえ, たかのぶ |
Mar-1999 | 準安定窒素原子と水分子の反応 | 橋本, 秀臣; はしもと, ひでおみ |
Mar-1998 | 準安定窒素原子と重水素化水素の反応 | 金剛, 晃一; こんごう, こういち |
Mar-1999 | 準安定窒素原子の脱励起速度における同位体効果 | 松永, 榮治; まつなが, えいじ |
Mar-2011 | 準相補MOS論理ゲートを用いたデジタル回路の低消費電力設計 | 曽和, 修一; そわ, しゅういち |
24-Oct-2002 | 溶剤の蒸留リサイクル | 神森, 幸二; 宮原, 克彦 |
Sep-2007 | 溶媒環境の制御による高度異方性金属ナノマテリアルの創製 | 申, 仲栄; しぇん, ぞんろん |
27-Oct-2007 | 溶接・接合技術で世界のリーダーを目指す産学官連携開発センターの成功要因 : 米国NFS,I/UCRCから自立したEWIの事例研究(産官学連携(5),一般講演,第22回年次学術大会) | 難波, 正憲; 藤本, 武士 |
Mar-2023 | 溶液NMR法を用いた糖鎖の構造と水和との連関の解明 | 龍岡, 博亮; たつおか, ひろあき |
31-May-2018 | 溶液SiC材料による高品質固体膜の形成 | 増田, 貴史; Masuda, Takashi |
Dec-2017 | 溶液を用いた分子層堆積(MLD)法によるポルフィリン含有ポリ尿素薄膜の作成 | Uddin, S. M. Nizam; うっでぃん, えす えむ にざむ |
Mar-2014 | 溶液プロセスa-Si:Hの基礎物性および太陽電池特性の評価 | 佐久間, 陽; さくま, よお |
Mar-2021 | 溶液プロセスにより形成したイットリウムドープ酸化フニウム-ジルコニウムを用いた酸化物チャネル強誘電体ゲートトランジスタの研究 | Mohit; もひーと |
Mar-2017 | 溶液プロセスによるMoS_2の形成と薄膜トランジスタ応用に関する研究 | 金, 冑男; きむ, じゅうなん |
Sep-2016 | 溶液プロセスによる非晶質SiC半導体膜の作製に関する研究 | 岩坂, 明; いわさか, あきら |
Mar-2016 | 溶液プロセスによる高品質LnZrO絶縁膜の開発 | 下野, 和輝; しもの, かずき |
Mar-2016 | 溶液プロセスによる高誘電率酸化物薄膜の形成に関する研究 | 尾方, 将剛; おがた, まさたか |
Mar-2020 | 溶液プロセスを用いたバイオセンサ用アクティブマトリクス酸化物TFTアレイの作製 | 栗谷川, 翔; くりやがわ, しょう |
Mar-2018 | 溶液抜き取りによる液面降下を利用した薄膜の作製と評価 | 藤井, 悠貴; ふじい, ゆうき |
Mar-2002 | 溶液法による有機EL素子の作製法の開発 | 阿高, 弘之; あたか, ひろゆき |
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