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発行日タイトル 著者
Mar-1997 準安定窒素原子 N(^2D) とアルカンの反応で生ずる NH ラジカルの初期状態分布木村, 友紀; キムラ, ユキ
Mar-1999 準安定窒素原子とメタン及び重水素化メタンの反応中永, 隆庸; なかえ, たかのぶ
Mar-1999 準安定窒素原子と水分子の反応橋本, 秀臣; はしもと, ひでおみ
Mar-1998 準安定窒素原子と重水素化水素の反応金剛, 晃一; こんごう, こういち
Mar-1999 準安定窒素原子の脱励起速度における同位体効果松永, 榮治; まつなが, えいじ
Mar-2011 準相補MOS論理ゲートを用いたデジタル回路の低消費電力設計曽和, 修一; そわ, しゅういち
24-Oct-2002 溶剤の蒸留リサイクル神森, 幸二; 宮原, 克彦
Sep-2007 溶媒環境の制御による高度異方性金属ナノマテリアルの創製申, 仲栄; しぇん, ぞんろん
27-Oct-2007 溶接・接合技術で世界のリーダーを目指す産学官連携開発センターの成功要因 : 米国NFS,I/UCRCから自立したEWIの事例研究(産官学連携(5),一般講演,第22回年次学術大会)難波, 正憲; 藤本, 武士
Mar-2023 溶液NMR法を用いた糖鎖の構造と水和との連関の解明龍岡, 博亮; たつおか, ひろあき
31-May-2018 溶液SiC材料による高品質固体膜の形成増田, 貴史; Masuda, Takashi
Dec-2017 溶液を用いた分子層堆積(MLD)法によるポルフィリン含有ポリ尿素薄膜の作成Uddin, S. M. Nizam; うっでぃん, えす えむ にざむ
Mar-2014 溶液プロセスa-Si:Hの基礎物性および太陽電池特性の評価佐久間, 陽; さくま, よお
Mar-2021 溶液プロセスにより形成したイットリウムドープ酸化フニウム-ジルコニウムを用いた酸化物チャネル強誘電体ゲートトランジスタの研究Mohit; もひーと
Mar-2017 溶液プロセスによるMoS_2の形成と薄膜トランジスタ応用に関する研究金, 冑男; きむ, じゅうなん
Sep-2016 溶液プロセスによる非晶質SiC半導体膜の作製に関する研究岩坂, 明; いわさか, あきら
Mar-2016 溶液プロセスによる高品質LnZrO絶縁膜の開発下野, 和輝; しもの, かずき
Mar-2016 溶液プロセスによる高誘電率酸化物薄膜の形成に関する研究尾方, 将剛; おがた, まさたか
Mar-2020 溶液プロセスを用いたバイオセンサ用アクティブマトリクス酸化物TFTアレイの作製栗谷川, 翔; くりやがわ, しょう
Mar-2018 溶液抜き取りによる液面降下を利用した薄膜の作製と評価藤井, 悠貴; ふじい, ゆうき
Mar-2002 溶液法による有機EL素子の作製法の開発阿高, 弘之; あたか, ひろゆき
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お問合せ先 : 北陸先端科学技術大学院大学 研究推進課図書館情報係 (ir-sys[at]ml.jaist.ac.jp)